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企业海外参展常见的知识产权风险集中在专利权风险、商标权风险和版权风险三大方面。

1）专利权风险

参展产品融合了最先进的研发成果，因其外型、结构、原理被抄袭而引发的专利侵权纠纷是展会中发生比例最高的。外观设计专利、普通的实用新型专利，内行人只要看一眼，立刻就能模仿。

2）商标权风险

商标具有地域性，在中国注册的商标，只在中国受保护，在参展地没有注册，则不受保护。如果企业的商标在中国注册，但在参展地却被其他人抢注成功，那么企业未经授权在参展地使用该商标就属于侵权行为。此外，如果在商品、包装以及相关广告宣传品上出现了在中国属于通用名称而在其他国家受法律保护的商标时，企业也会在不知情的情况下被视为商标侵权。

3）版权风险

参展企业散发的参展材料中如果使用了他人作品，或者搭建的展台使用了他人设计方案，都会导致侵犯他人版权。展会中，因使用背景音乐、他人摄影作品或美术作品等而被追究责任的纠纷也有发生。企业还应注意展会现场使用的电脑中所承载的软件是否是正版。